在半导体生产中，纯水设备，超纯水主要用于清洗硅片。少量水用于配制药剂、硅片氧化的蒸汽源、某些设备的冷却水、电镀溶液的配制。集成电路产品的质量与产量密切相关。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良，重金属(Au、Ag、Cu等)会降低PN结的耐压力，III族元素 (B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化，半导体纯水设备，V族素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化。细菌高温炭化水中的磷(约为灰分的20%~50%)会使p型硅片局部变为N型硅片，导致器件性能下降。水中的颗粒，包括细菌，如果附着在硅片表面，会导致短路或性能恶化。可见，电子超纯水设备，超纯水在半导体行业的必要性。

电子纯水设备-纯水设备

EDI超纯水设备时应注意哪些问题?

1、产水水质：EDI超纯水设备可产生0.5MΩ.cm、2MΩ.cm、10MΩ.cm、15MΩ.cm、18MΩ.cm的水质，不同行业有不同的水质要求，采用的水处理工艺不同，使用的化学品不同，成本自然会有所不同。

2、设备材料：工业超纯水设备通常采用玻璃钢和不锈钢两种材质制成，应根据水处理工艺确定。

3、出水：由于超纯水不能直接与空气接触，在整个超纯水设备的末端应设置一个超纯水水箱。该超纯水水箱的尺寸主要由企业每小时所需的超纯水量决定。

日常生活中，很多经常需要使用EDI超纯水设备的行业跟我们密切相关。例如电子光电行业、化工行业、生物制药行业、精密机械行业、电镀涂装行业、化妆品行业等，这些行业都有一个共同的特点，那就是对水质的纯度要求较高，电子纯水设备，EDI超纯水设备可以很好地解决这个问题。

我们需要知道，EDI超纯水设备通常是由预处理过滤设备、反渗透设备和EDI模块三个单位组合而成，其中预处理过滤设备和反渗透设备可以净化原水达到饮用水标准，而EDI模块通过电解水质达到目标纯度。

EDI超纯水设备工作原理：通过阳、阴离子膜对阳、阴离子的选择透过作用以及离子交换树脂对水中离子的交换作用，实现水中离子的定向迁移，从而达到水的深度净化除盐，水会发生电解产生大量H+和OH-，这些H+和OH-对离子膜中间的阴、阳离子不断地进行了再生，补充了离子交换树脂，并不必因再生而停机。

电除盐EDI模块：电除盐EDI模块的灵活性在于，针对不同行业对水质纯度的要求，可以通过不同数量的模块组合搭配，从而达到目标纯度。